Si3N4是强酰胺键混合物，为非稀土氧化物，常温常压下不存在甩出来，即没有Si3N4熔体。Si3N4没有甩出来扩散和甩出来炼钢操作，炼钢动态平衡非常小，所以说，其必须通过普通陶瓷甩出来炼钢的方式进行制造斑片样的Si3N4基陶瓷。即使有氮化硅技术，得到的结果样品是有一定的气孔率。以获得斑片样的氮化硅陶瓷，在氮化硅粉体原料里加稀土氧化物的炼钢添加剂，利用稀土氧化物会有时发展起来的一些产品相来促进炼钢的致密化。一般的炼钢添加剂有氧化镁、氧化钇、氧化镁、碳酸氢铵等，不同的炼钢添加剂分子机制也不一样，在制造不同种类的氮化硅陶瓷时，需要选择使用不同的炼钢添加剂并且回归与好炼钢添加剂。

(1)氮化硅(RS)

氮化硅是将金属硅粉与Si3N4原料搭配成型后，低温的压力气体下，坯体过程中的金属硅粉与氮气反应生成新的事物Si3N4结合相，并把原料Si3N4稳固的结合在一起，约有的反应烧结温度为1400℃多。该方法不必要添加炼钢添加剂，氮化处理包装材料强度不高，没有达到完全的致密化。因存在氮化处理深入等问题，可以对大型的部分进行氮化硅，仅仅只有厚度在合理范围内的都可以此加工。

(2)常温常压炼钢(PLS)

常温常压炼钢是比较困难的一种制造氮化硅陶瓷的方法来，工艺设备较为简洁。将不同比表面积的氮化硅粉末通过制粒-成型制成面团，然后在常温常压管式炉中炼钢即可。在炼钢过程中，α-Si3N4加热后转变为β-Si3N4，增强了日用瓷的炼钢。在炼钢过程中，常通入的压力作为保护气，防止Si3N4的氧化还有就是仰制Si3N4脂肪的代谢。其缺点为成型产品收缩率大，易发裂变形。

(3)烧结工艺(HP)

将氮化硅粉末与炼钢添加剂搅匀，放入石墨模具中，加热后炼钢的同时，对其单极高层供水，外加外压增大了甩出来炼钢的炼钢动态平衡，会加快α-β的转变和日用瓷的致密化，可获得硬度高，密度高，强度高的优良的氮化硅陶瓷包装材料，其强度可达到Si3N4学说密度的95%往上。然而，该方法成本较高，产生效率低，但是无法制造较为复杂形的包装材料。因此单极高层供水，其组织并且晶粒会有择优取向，在几个方向上耐用性并不完全同样，这一点上也制衡了制品的广泛应用